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紫外纳米压印光刻机提升我国微纳级制造业能力

发布时间:2021-08-23 23:15   浏览次数:次   作者:华体会体育
本文摘要:媒体前几天从中国科学院光电技术研究所得知,该微电子专用设备开发团队自律开发了新型紫外纳米压印雕刻机,其成本仅为国外同类设备的三分之一,将中国芯片加工等微纳级结构设备的生产水平提高到了新的阶段。雕刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子设备整体研究室主任胡松说明,该设备采用新型纳米对准技术,将原光刻设备的对准精度从亚微米量级提高到纳米量级。 对准是雕刻设备的三个核心指标之一,是构建功能化设备加工的关键。

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媒体前几天从中国科学院光电技术研究所得知,该微电子专用设备开发团队自律开发了新型紫外纳米压印雕刻机,其成本仅为国外同类设备的三分之一,将中国芯片加工等微纳级结构设备的生产水平提高到了新的阶段。雕刻机是微纳图形加工的专用高端设备。光电所微电子设备整体研究室主任胡松说明,该设备采用新型纳米对准技术,将原光刻设备的对准精度从亚微米量级提高到纳米量级。

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对准是雕刻设备的三个核心指标之一,是构建功能化设备加工的关键。胡松应对,在国家自然基金的倒数资助下,光电研究团队完成了基于莫尔条纹的高精度对准技术的自律研究开发,获得了20多项专利。该技术在雕刻机中的顺利应用,突破了现有纳米尺寸结构加工的瓶颈问题,确保了高精度纳米设备的加工,将来可以应用于微纳流控芯片的加工、微纳光学元件、微纳光栅等微纳结构设备的制作,现在该设备已经完成了初试和小批量生产。


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